1、金属化膜镀层方阻设计问题：方阻过高，放电时焦耳热不足，自愈失败，易引起击穿；方阻过低，放电电流过大，焦耳热量过大，自愈失败，也会引起薄膜击穿。因此，需研究不同膜厚对应的合理方阻及自愈能量的大小。 2、超高方阻纳米蒸镀技术：方阻达到500-600Ω/□以上，均匀一致控制技术。 3、储能介质薄膜耐高场强技术：工作场强≥600VDC/μm。 4、金属化膜氧化问题：由于脉冲电容器金属化膜采用超高方阻设计，镀层主要成分为铝金属，这会加快镀层的氧化速率，如何防止金属化膜氧化问题至关重要。 5、电容器单元芯子尺寸与充放电寿命的逻辑关系：不同直径电容器单元芯子，卷绕、聚合等工艺对金属化膜的影响不同，工作时产生的热量、自愈能量也不相同，不同直径的芯子对电容器充放电寿命有很大影响。 需解决电容器个别失效及时隔离的问题：很多脉冲储能设备采用多个电容器并联工作，电容器组总体存储的能量巨大，而脉冲电容器由于储能密度高，电容器薄膜单位工作场强很高，因此存在个别电容器失效的问题。需针对单个电容器失效，研究及时隔离的方案，以防止对储能设备整体的影响。
【社会信用代码】：9134070014897301XF
【单位联系人】：储松潮
【手机号码】：18605627700
【需求单位】：安徽铜峰电子股份有限公司
【需求所在省市】：安徽省/铜陵市
【需求类型】：技术
【需求技术领域】：新能源及绿色低碳
【合作方式】：技术开发
【投入金额（万元）：5000万元
【意向对接单位】：中国科学技术大学、合肥工业大学、铜陵学院
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