技术简介： 本发明公开了一种高纯偏钒酸钠及其制备方法，该制备方法包括：(1)将含钒浸出液通过第一碱性阴离子交换树脂进行硅吸附，得到除硅后的含钒浸出液；(2)将所述除硅后的含钒浸出液通过第二碱性阴离子…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高纯五氧化二钒的制备方法，该方法包括如下步骤：a、将含钒原料磨细并作除铁处理；b、将步骤a处理后的原料进行钠化焙烧，然后浸出得到含钒溶液；c、将步骤b得到的含钒溶液进行…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高纯五氧化二钒的制备方法，将酸性沉钒与碱性沉钒结合，水解沉钒与阳离子交换除杂相结合；利用水解沉钒，在酸性条件下除去部分杂质，将所得钒的水解产物滴加稀氢氧化钠溶解，过…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高氮钒氮合金VN18及其生产方法，解决现有技术中存在的质量较差、氮含量低、生产成本较高、产品质量不稳定的问题。本发明的高氮钒氮合金VN18由重量比为70～80：15～25：4～6：0.…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高电阻温度系数的氧化钒薄膜制备方法，包括以下步骤：（1）将基片在富氧气氛下进行离子轰击活化处理；（2）氧化钒薄膜沉积在常温下分两步进行：在处理后的基片上沉积一层1-5nm…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高电阻温度系数二氧化钒薄膜的制备方法，可用于非致冷红外探测。该方法在沉积有Si3N4或者SiO2薄膜的硅衬底上，采用反应离子束溅射法沉积厚度为50－200nm的氧化钒薄膜；待自然冷…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高电阻温度系数氧化钒薄膜的制备方法，包括：单晶硅衬底表面清洗，装入磁控溅射装置生长室；在单晶硅表面溅射氮化硅薄膜；在氮化硅薄膜上沉积一层氧化钒薄膜；在氧化钒薄膜上沉…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高堆比重、高稳定性三氧化二钒的生产方法，其特征在于，该方法的工艺步骤为：将干钒酸铵用还原性气体进行还原，得到粉状三氧化二钒；粉状三氧化二钒经喂料机与辊压机，通过挤压…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高钒SCR脱硝催化剂再生废水处理方法，包括：a：废水首先进入预沉淀箱进行沉淀；b：进入流通池，向流通池加NaOH药剂，然后流入废水池；c：用泵提升至铁碳微电解箱；d：进入三联…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高钒催化剂的制备方法和应用，包括如下步骤：步骤S1，称取纳米钛白粉、粘合剂、分子筛、水搅拌至均匀；步骤S2，将步骤S1所得混合物在挤出机内挤出成型，煅烧得到坯体；步骤S3，…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高钒磁铁制备氮化钒铁合金的生产方法，具体的生产方法包括以下几个步骤：（1）研磨：将高钒磁铁颗粒或块利用研磨机进行粉碎，粉碎后的碎屑粒度在0.5mm‑10mm；（2）筛选：利用…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种高钒钢耐磨材料及其制备方法，它是一种硬度，韧性和耐磨性都非常优良的耐磨材料，可以用于制作高性能轧辊，刀具，冲压模具等。其化学成分设计为(重量％)：C：2.2～2.5％，V：8.…… 查看详细 >